Низкотемпературный отжиг слаболегированных слоев n-4H-SiC после облучения быстрыми электронами

This is a publication. If there is no link to the publication on this page, you can try the pre-formated search via the search engines listed on this page.

Authors: O.M. Корольков, В.B. Козловский, A.A. Лебедев, Н. Слепчук, J. Toompuu, T. Rang

Journal title: Журнал технической физики

Journal number: 53/7

Journal publisher: IOFFE

Published year: 2019

Published pages: 991

DOI identifier: 10.21883/ftp.2019.07.47879.9089

ISSN: 0044-4642